鳍式场效应晶体管（FinFET）是现代纳米电子半导体器件制造的基础。
图1示意性地显示了其3D结构设计。栅极环绕凸起的硅翅片上的通道，其中电荷电流在SiGe源极和漏极之间流动。与传统的平面晶体管相比，FinFET在栅极和沟道之间提供了更大的表面积，从而更好地控制了电场，并在“关闭”状态下减少了泄漏。
在本应用纪要中，我们使用Nanolab Technologies最先进的TEM仪器和其他基于TEM的分析技术（包括EELS和PED）对22nm FinFET结构的结构，元素分布和晶体取向进行了研究。
采用原位FIB提除技术，在图50所示的鳍片位置制备~1 nm厚度的TEM薄片。
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