原位XPS是利用 X 射线辐射样品，使得样品的原子或分子的内层电子或者价电子受到激发而成为光电子，通过测量光电子的信号来表征样品表面的化学组成、元素的结合能以及价态。

原位X 射线光电子能谱技术作为一种高灵敏超微量的表面分析技术，对所有元素的灵敏度具有相同的数量级，能够观测化学位移，能够对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分析，广泛地应用于元素分析、多相研究、化合物结构分析、元素价态分析。此外在对氧化、腐蚀、催化等微观机理研究，污染化学、尘埃粒子研究，界面及过渡层研究等方面均有所应用。

原位X 射线光电子能谱(In situXPS)服务能力：材料表面元素分析、深度剖析、微区分析、角分辨、高低温XPS、原位+紫外辐照XPS分析

原位X 射线光电子能谱(In situXPS)服务特色：

1. 可测样品最大高度20mm左右，包括各种异形件，如球，刀片，头发丝极的细丝，圈等各种零件和试件。

2. 可进行微区测试，光斑最小直径7.5um，采谱面积10um至1300um，微区分析（空间分辨率优于10um，用同源X射线激发的SXI二次电子成像，保证图谱与所需测试区域的一致。

3. 可进行原位变温测试：温度范围：-150℃-800℃。

4. 可进行原位价带谱测试（波长范围：10-400，氘灯氙灯都有）。

5. 表面清洁：GCIB团簇离子枪，通过绝热膨胀和离化，使2000个Ar离子带一个电荷，在不破坏无机物的化学态条件下，实现对有机物的清洗和溅射功能。

6. 深度剖析：配有Ar离子枪，可进行溅射和深度剖析。刻蚀深度可达um级。

 

样品的预处理 ：（对固体样品）

1.溶剂清洗（萃取）或长时间抽真空除表面污染物。

2.氩离子刻蚀除表面污物。注意刻蚀可能会引起表面化学性质的变化（如氧化还原反应）。

3.擦磨、刮剥和研磨。对表理成分相同的样品可用SiC(600#)砂纸擦磨或小刀刮剥表面污层；对粉末样品可采用研磨的方法。

4.真空加热。对于能耐高温的样品，可采用高真空下加热的办法除去样品表面吸附物。

XPS样品的安装：

一般是把粉末样品粘在双面胶带上或压入铟箔（或金属网）内，块状样品可直接夹在样品托上或用导电胶带粘在样品托上进行测定。

其它方法：

1.压片法：对疏松软散的样品可用此法。

2.溶解法：将样品溶解于易挥发的有机溶剂中，然后将其滴在样品托上让其晾干或吹干后再进行测量。

3.研压法：对不易溶于具有挥发性有机溶剂的样品，可将其少量研压在金箔上，使其成一薄层，再进行测量。

 

视频讲解：

快速认识XPS-案例及图谱分析

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