氢前向散射光谱(HFS)

氢前向散射光谱(HFS)是一种离子散射技术,用于定量确定薄膜中氢的垂直分布。在这个过程中,He2+离子以掠过的角度撞击样品表面,将氢原子从样品中剔除,然后可以使用固态检测器进行分析。

由于氢对薄膜物理或电性能的潜在影响,测量薄膜中氢含量的组成和垂直分布的能力可能至关重要。其他技术,如俄歇电子能谱(AES)、能量色散X射线能谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS),不能检测氢,虽然SIMS可以测量氢气,但通过SIMS对氢气进行定量可能很困难,需要标准。这使得氢前向散射光谱HFS成为薄膜分析的独特实用技术。

很少有实验室能够提供氢前向散射光谱HFS。康派斯的经验可实现快速的周转时间,准确的数据和人对人的服务,确保您了解结果对您的材料和工艺意味着什么。

HFS理想用途

  • 薄膜的氢分析

HFS优势强项

  • 无损 H 成分测量
  • 整晶圆分析(最大 300 mm)
  • 导体和绝缘体分析

HFS缺点限制

  • 大分析区域 (1×7 mm)
  • 有用信息仅限于薄膜 (<0.4 μm)
  • 深度分辨率为 300 Å

HFS技术规格

  • 检测到的信号:前向散射的H原子
  • 检测到的元素:1H、2H
  • 检测限:0.1-0.5 at%
  • 深度分辨率: ~300 Å
  • 成像/映射:
  • 横向分辨率/探头尺寸:≥1×7 mm

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