辉光放电质谱(GDMS)是一种非常灵敏且强大的分析工具,用于监测材料中的元素组成和杂质,直至痕量和超痕量质量分数水平。它是一种高分辨率质谱技术,基于辉光放电雾化/电离源结合扇形场质量分析仪。除了完整的调查元素覆盖外,如果在平面采样几何中进行测量,则可以以非常高的灵敏度评估元素的深度特定分布。
材料中未知或不需要的杂质通常会给材料专家或工程师带来“刺激性”干扰。因此,首选更高纯度的材料,以消除可能影响性能、可靠性、寿命和安全性的不良缺陷。另一方面,故意在材料中添加杂质会引入以前无法通过电子、光子、声子、原子和分子评估的能级,从而为发现新的特性定制现象创造巨大的机会。辉光放电质谱GDMS是杂质分析的强大工具。
GDMS理想用途
- 先进材料(金属、合金、石墨、电子材料、氧化物、陶瓷、合金钢)的全面调查分析
- 纯度认证高达 99.99999% (7N)
- 特定深度的痕量和超迹线分布测量
- 从有限数量的样品中追溯未知物
- 颗粒材料和工程涂料的化学表征
GDMS优势强项
- 全面调查除H以外的所有稳定同位素
- 十亿分之一的灵敏度
- 有限的矩阵效应
- 线性校准
- 鲁棒性
- 高灵敏度分析物的深度特定分布测量
GDMS缺点限制
- 无液体
- 真空稳定性
GDMS技术规格
- 检测到的信号:质量分辨正离子
- 涵盖的元素:元素的所有稳定同位素,H除外
- 灵敏度:十亿分之一或 ppbw
- 典型采样区域:50-80 mm2
GDMS相关资源
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